大阪大学 21世紀COEプログラム「原子論的生産技術の創出拠点」
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リーダー挨拶
この21世紀COEについて
概要
イメージ図
事業推進担当者
原子論的生産技術
原子論的生産技術とは
EEM
プラズマCVM
大気圧プラズマCVD
超純水のみによる電気化学加工
超精密非球面形状測定
SREM/STM
極微弱光散乱表面計測法
第一原理分子動力学シミュレーション
教育研究施設
UCR・UCF
研究発表
学術論文
国際会議
学会発表
その他
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技術シーズ
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その他
 
平成15年度 平成16年度 平成17年度 平成18年度  平成19年度
[平成15年度]

石川哲也、森勇藏
コヒーレントX線のための高精度全反射ミラーの開発
応用物理, 72(4), 439-443 (2003).

森 勇藏、広瀬喜久治、後藤英和
超純水のみによる電気化学的加工法の研究
電気加工学会誌、37 (84), 1-8 (2003).

広瀬喜久治、後藤英和、杉山和久、稲垣耕司、森 勇藏
第一原理計算に基づく超精密表面創成プロセスの開発
機械の研究、55 (7) 743-750 (2003).

広瀬喜久治,後藤英和,稲垣耕司,小野倫也
スーパーコンピュータによる量子力学第一原理シミュレーションの大規模化・高精度化の試み,
東北大学情報シナジーセンター広報(SENAC),37,3-11,(2004).

遠藤勝義
超精密科学研究センターの使命−原子論的生産技術の創出−
大阪大学低温センターだより,125,1-3 (2004).

山村和也,山内和人,佐野泰久,三村秀和,遠藤勝義,森 勇蔵
超高精度硬X線集光ミラーの製作とナノスペクトロスコピーへの応用
大阪大学低温センターだより,125,4-10 (2004).

佐野泰久,山村和也,遠藤勝義,森 勇蔵
数値制御プラズマCVMによる次世代超薄膜SOIウエハの製作
大阪大学低温センターだより,125,11-15 (2004).

垣内弘章,大参宏昌,安武潔,芳井熊安,遠藤勝義,森 勇蔵
大気圧プラズマCVD法による機能薄膜の超高速成形成技術の開発
大阪大学低温センターだより,125,16-22 (2004).

後藤英和,広瀬喜久治,遠藤勝義,森 勇蔵
超純水のみによる電気化学的加工法の研究
大阪大学低温センターだより,125,23-30 (2004).

小野倫也,広瀬喜久治,遠藤勝義,森 勇蔵
強電界下における表面反応の第一原理分子動力学シミュレーション
大阪大学低温センターだより,125,31-34 (2004).

Akira SAITO, Hiroyuki Takaki, Kenji Matona, Junpei Maruyama, Wataru Yashiro, Kazushi Miki, Osami Sakata, and Toshio Takahashi
Three-dimensional Structural Analysis of Buried Nano-wire by X-ray Standing Wave Method
Spring-8 User Experiment Report, 11, p.75 (2003).

Y. Mori, H. Kakiuchi, K. Yoshii and K. Yasutake
High-rate deposition of amorphous silicon films by atmospheric pressure plasma chemical vapor deposition
Crystal Growth Technology, Edited by H. J. Scheel and T. Fukuda, John Wiley & Sons Ltd., pp. 645-652 (2003).

Y. Mori, K. Yamamura, and Y. Sano
Plasma-CVM (Chemical Vaporization Machining)
Crystal Growth Technology, Edited by H. J. Scheel and T. Fukuda, John Wiley & Sons Ltd., pp.587-606 (2003).

Y. Mori, K. Yamauchi, K. Hirose, K. Sugiyama, K. Inagaki, and H. Mimura
Numerically Controlled EEM (Elastic Emission Machining) System for Ultraprecision Figuring of Aspherical Surfaces
Crystal Growth Technology, Edited by H. J. Scheel and T. Fukuda, John Wiley & Sons Ltd., pp.607-620 (2003).

桑原裕司, 赤井恵, 大川祐司, 青野正和
一次元重合分子鎖の構築と電子状態評価
応用物理, 72, 1291-1295 (2003).

青野正和
ナノ材料総論
ナノテクノロジー大辞典, 工学調査会, p.13 (2003).

桑原裕司
有機薄膜
ナノテクノロジー大辞典, 工学調査会 p.109-115 (2003).

桑原裕司
固体表面に組み込む
先端化学シリーズY, 日本化学会編, 丸善, pp.178-183 (2003).



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[平成16年度]

小野倫也,広瀬喜久治
第一原理計算によるナノスケール構造体の電子輸送予測
固体物理, 39(11), 848-854, (2004).

Kikuji Hirose, Tomoya Ono, Yoshitaka Fujimoto and Shigeru Tsukamoto
First-Principles Calculations in Real-Space Formalism -- Electronic Configurations and Transport Properties of Nanostructures --
Imperial College Press, London, (2005).

Takayoshi Shimura, Eiji Mishima, Kiyoshi Yasutake, Shigeru Kiumura, and Masataka Umeno
Observation of Concentric Circular Patterns of State-of-the-art SOI Wafers by Large Area X-ray Topography
SPring-8 User Experimenta Report, No.12 (2003B) 110.

遠藤 勝義
原子論的生産技術の創出拠点
生産と技術, 56,2, (2004).

広瀬喜久治,後藤英和,稲垣耕司,小野倫也
スーパーコンピュータを用いたシミュレーションによるナノスケール構造体の電子輸送現象の解析
東北大学情報シナジーセンター大規模科学計算システム広報 SENAC, 37(4), 11-16, (2004).

青野正和 桑原裕司 赤井恵
ナノワイヤにポーラロンを直接注入 単一分子デバイスの機能発現に道
日経ナノビジネス 2004年11月22日

井上晴行、片岡俊彦
レーザー光散乱法によるSiウエハ表面の微小欠陥計測
光アライアンス,vol.16,no.2,pp.36-41(2005).

押鐘 寧、片岡俊彦
光ファイバからの回折球面波を用いた位相シフト干渉計測
光アライアンス,vol.16,no.1,pp.36-41(2005).



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[平成17年度]

Yoshitaka Fujimoto and Kikuji Hirose
First-Principles Theory for the Calculation of Electron-Transport Properties
NANOTECHNOLOGY FOCUS, Nova Science Publishers, Inc., New York, 19-46, (2005).

広瀬喜久治,小野倫也
基礎編RSPACE-04−ナノ構造体の電気伝導特性−
計算機マテリアルデザイン入門, 大阪大学出版会, 大阪, 176-190, (2005).

広瀬喜久治,小野倫也
応用編RSPACE-04
計算機マテリアルデザイン入門, 大阪大学出版会, 大阪, 368-377, (2005).

Hidekazu GOTO, Kouji INAGAKI, Kikuji HIROSE, Katsuyoshi ENDO and YuzoMori
Electronic simulation of atomic fabrication technology"
砥粒加工学会誌, 49(7), 362-365, (2005).

A. Saito
Reproduction of Morpho-Blue by Artificial Substrate
Structural Colors in Biological Systems Chapter VII Applications of Structural Colors (Osaka University Press) P287-295 August, 2005

垣内弘章, 大参宏昌, 安武 潔, 芳井熊安, 森 勇藏, 中濱康治, 江畑裕介
大気圧プラズマCVDによる機能薄膜の高速形成
日本学術振興会薄膜第131委員会, 第226回研究会資料, pp. 31-35.

垣内弘章, 大参宏昌, 安武 潔, 芳井熊安, 森 勇藏
大気圧プラズマCVDによる超高速成膜技術の開発
先端放射線化学シンポジウム2005, pp. 1-2.

後藤英和
ナノテクノロジーにおける電子状態シミュレーション
これからの生産技術,2005,9-16.

総説
青野正和、中山知信、桑原裕司、赤井恵
低次元ナノ構造の電気伝導度
応用物理 第75巻 第3号(2006) pp.285-295

垣内弘章, 大参宏昌, 安武 潔
大気圧プラズマCVDによる機能薄膜の高速・低温形成技術
MATERIAL STAGE, 2006年3月号, pp. 14-20.

後藤英和, 一井愛雄
「基板表面の加工方法」
特願2006-005121

三村秀和 山内和人 ジェイテック(株).
「超精密形状測定方法」
特願2006-42547



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[平成18年度]

三村秀和, 山内和人
X線ナノ集光ミラーの形状計測
光アライアンス, 8, 45-49, (2006).

三村秀和, 久保田章亀, 山内和人, 森 勇藏
EEM(Elastic Emission Machining)によるナノ精度加工
混相流, 20(2), 110-116, (2006).

三村秀和, 山内和人, 森勇藏
Elastic Emission Machining
工業調査会「図解 砥粒加工技術のすべて」(砥粒加工学会編), , 114-115, (2006).

佐野泰久, 三村秀和, 山村和也, 山内和人, 森勇藏
高精度非球面ミラーの加工技術
レーザー研究, Vol. 35, pp.162 , 167 ,( 2007).

齋藤彰、平井義彦
1枚の写真− モルフォブルーの再現−
O plus E 28 (9), 883-884 (2006).

M. Shimura, A. Saito, Y. Ishizaka
Element Array by Scanning X-ray Fluorescence Microscopy after Cis-diamminedichloro-platinum (II) Treatment.
SPring-8 Frontiers 05, 31-32 (2006).

齋藤彰、青野正和
STMによる元素分析
丸善「表面物性工学ハンドブック 第2版」, 961-965 (2007).



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