大阪大学　21世紀COEプログラム「原子論的生産技術の創出拠点」

	概要
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	事業推進担当者

	原子論的生産技術とは
	EEM
	プラズマCVM
	大気圧プラズマCVD
	超純水のみによる電気化学加工
	超精密非球面形状測定
	SREM/STM
	極微弱光散乱表面計測法
	第一原理分子動力学シミュレーション

	学術論文
	国際会議
	学会発表
	その他

最終報告書

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1.はじめに

2.拠点形成の目的と概要

2.1 拠点形成の目的

2.2 研究実施計画

2.3 教育実施計画

2.4 拠点の運営体制

2.5 研究施設・設備

2.5.1 ウルトラクリーンルーム

2.5.2 ウルトラクリーン実験施設

2.5.3 主要研究設備

3.研究教育拠点形成活動実績

3.1 目的の達成状況

3.1.1 世界最高水準の研究教育拠点の形成

3.1.2 研究活動における新たな学術的知見の創出

3.1.3 事業担当者相互の有機的連携

3.1.4 国際競争力

3.1.5 人材育成

3.1.6 研究経費の使途

3.2 特記事項（中間評価）への対応とその結果

3.2.1 研究者間の有機的連携

3.2.2 連携型技術教育研究システム

3.2.3 他研究機関、製品化企業との連携

3.2.4 国内外への情報発信

3.3 今後の展望

3.3.1 人材育成

3.3.2 研究活動における新たな学術的知見の創出

3.3.3 学会活動

3.3.4 産官学の連携

3.4 社会貢献

4. 情報発信

4.1 シンポジウムの開催

4.2 展示会への出展

4.3 高校生見学、実験

4.4 21世紀プラザ完成記念式典

5. 教育活動実績

5.1 人材育成プログラムの概要

5.2 事業化研究リーダー育成プログラム

5.3 横断型異分野連携人材育成プログラム

5.4 エリート研究者発掘・育成プログラム

6. 研究活動実績

6.1 生体細胞観察のための超高精度Ｘ集光線ミラーの作製と硬X線ナノ分光イメージングシステムの開発

6.2 極端紫外光リソグラフィー用光学素子の開発

6.3 大気圧プラズマによる機能薄膜の高能率形成技術の開発

6.4 半導体デバイス製造のための超純水のみのよる低環境負荷型加工・洗浄プロセスの開発

6.5 最先端半導体デバイスの開発

6.6 自己組織化デバイス

6.7 極端紫外光源の開発

6.8 新しい超精密形状計測法の開発

6.9 表面ナノスケール計測技術の開発と応用

6.10 超精密加工プロセスの第一原理シミュレーション

6.11 第一原理シミュレーションによるナノスケール構造の機能予測

6.12 新しい原子論的生産技術の創出

6.12.1 触媒反応援用研磨法の開発

6.12.2 ローカルウェットエッチング法の開発

6.12.3 大気開放型プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)の開発

6.12.4 大気圧プラズマ化学的輸送法の開発

6.12.5 多孔質カーボン電極大気圧プラズマCVDの開発

6.12.6 数値制御大気圧プラズマ犠牲酸化法の開発

7. 研究成果リスト

7.1 学術論文

7.2 国際会議

7.3 国内会議

7.5 解説とその他の印刷物

7.7 新聞記事

7.8 特許出願

8. 獲得した外部資金

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