技術領域 研究開発テーマ 超精密加工・材料 ・高精度X線集光ミラーの作製 ・触媒基準エッチング(CAtalyst Reffered Etching: CARE) ・Ge 微結晶を用いた大粒形多結晶薄膜形成
・大気圧プラズマ CVD によるエピタキシャル Si 膜の低温・超高速堆積 ・水素プラズマ SiC 表面処理
・高誘電率絶縁膜を用いた SiC-MOS の開発
計測・評価 ・次世代 MOS-FET 用 Metal/High-k ゲートスタックの界面反応評価
・放射光 X線 による結晶表面・界面・薄膜の高精度評価 ・トンネル電流誘起発光分析システム ・独立駆動二探針走査トンネル顕微鏡システム