大阪大学 21世紀COEプログラム「原子論的生産技術の創出拠点」
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リーダー挨拶
この21世紀COEについて
概要
イメージ図
事業推進担当者
原子論的生産技術
原子論的生産技術とは
EEM
プラズマCVM
大気圧プラズマCVD
超純水のみによる電気化学加工
超精密非球面形状測定
SREM/STM
極微弱光散乱表面計測法
第一原理分子動力学シミュレーション
教育研究施設
UCR・UCF
研究発表
学術論文
国際会議
学会発表
その他
募集
お知らせ
技術シーズ
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技術シーズの紹介

技術領域         研究開発テーマ

超精密加工・材料     ・高精度X線集光ミラーの作製

             ・触媒基準エッチング(CAtalyst Reffered Etching: CARE)


             ・Ge 微結晶を用いた大粒形多結晶薄膜形成

             ・大気圧プラズマ CVD によるエピタキシャル Si 膜の低温・超高速堆積

             ・水素プラズマ SiC 表面処理

             ・高誘電率絶縁膜を用いた SiC-MOS の開発


計測・評価        ・次世代 MOS-FET 用 Metal/High-k ゲートスタックの界面反応評価

             ・放射光 X線 による結晶表面・界面・薄膜の高精度評価

             ・トンネル電流誘起発光分析システム

             ・独立駆動二探針走査トンネル顕微鏡システム

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